基本參數(shù)

1、基片尺寸：6吋及以下；

2、樣品臺旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)速度0～10轉(zhuǎn)/分；

3、基片升降:樣品到蒸發(fā)源距離可調(diào)，250-350mm；

4、操作方式：全自動(dòng)方式操作；

5、系統(tǒng)總控：人機(jī)界面及控制程序；

6、電源：220VAC/50Hz，10KW；

7、機(jī)器重量：530kg；

8、機(jī)器尺寸：D810mm× W1220mm×H1830mm。

蒸發(fā)源、電源及鍍膜室

1、蒸發(fā)源（金屬舟狀）1套；

2、金屬蒸發(fā)電源：2套，3KW/套，數(shù)字顯示，其中一套為切換蒸發(fā)電源；

3、蒸發(fā)：水冷電極三組，配有交叉防污染板，自動(dòng)擋板， 配兩套數(shù)顯蒸發(fā)電源功率為3KW；

4、真空室：圓柱形 304 不銹鋼腔體，正面開門結(jié)構(gòu)；

5、極限真空：優(yōu)于 6.67*10-5 Pa；

6、真空系統(tǒng)：采用 FF160/620 分子泵+6-8 升/S 旋片式機(jī)械泵組成；

7、真空測量：一低一高數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)，一只電阻規(guī)測量前級預(yù)抽低真空，一只電離規(guī)測量真空室高真空，全金屬規(guī)管；

8、抽氣時(shí)間：大氣壓~3*10-4 Pa≤40min；

9、恢復(fù)工作真空時(shí)間：≤35分鐘左右（新設(shè)備充干氮?dú)猓?

10、漏率：關(guān)機(jī)12小時(shí)真空度≤10Pa。

膜厚監(jiān)測及保護(hù)系統(tǒng)

1、配備膜厚監(jiān)測儀；

2、配備1支石英晶振水冷探頭；

3、設(shè)備保護(hù)系統(tǒng)：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)；具備完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)。