基本參數

1、可鍍尺寸：6吋及以下；

2、樣品臺旋轉：自轉速度0～20轉/分，可加熱；

3、靶基距：100mm 至 150mm，調節(jié)量為50mm；

4、操作方式：全自動控制方式；

5、系統(tǒng)總控：人機界面及控制程序；

6、電源：220VAC/50Hz，8KW；

7、機器重量：630kg；

8、機器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm。

磁控電源及濺射鍍膜室

1、磁控靶：≥3英寸永磁靶3套，靶頭角度0～25°可調，配置靶擋板；

2、靶工作模式：單靶濺射，3靶共濺，3靶交替濺射；

3、電源：帶3臺直流電源1KW、RF射頻電源0.6KW、負 500V偏壓電源；

4、真空室：雙真空室結構，圓柱形304不銹鋼，前開門D 型腔體；伺服電機電缸驅動送樣系統(tǒng)；

5、真空度：主真空室真空度≥3×10-5 Pa、副真空室真空度 ≥1×10-4 pa；

6、抽氣時間：大氣壓~3*10-4 Pa≤40min；

7、恢復工作真空時間：≤35分鐘左右（新設備充干氮氣）；

8、漏率：關機12小時真空度≤10Pa。

測量系統(tǒng)

1、真空計：數顯復合真空計1套，測量低真空和高真空；

2、帶四路氣體流量控制器及顯示儀。

冷卻系統(tǒng)

1、配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)：內部用不銹鋼水槽，水冷機設有水流報警系統(tǒng)；

2、保護系統(tǒng)：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護。